Nitrure d'hafnium

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Modèle:Infobox Chimie Le nitrure d'hafnium est un composé chimique de formule HfN. Il se présente sous la forme d'un solide inodore gris foncé à jaune-brun. Il s'agit d'une céramique ultraréfractaire ultradure[1] ayant une dureté Vickers de Modèle:Unité[2]. C'est un conducteur électrique de structure cristalline de type halite ayant le groupe d'espace FmModèle:Surlignerm (Modèle:N°)[3]. Sa masse volumique expérimentale n'est que de Modèle:Unité alors qu'elle serait théoriquement plutôt Modèle:Unité sur la base de sa structure cristalline[4].

Le nitrure d'hafnium est utilisé comme matériau de pulvérisation pour augmenter la stabilité des diodes, des transistors et des circuits intégrés[1]. On l'utilise également comme matériau de revêtement sur les outils de tour[5] en raison de sa dureté et de sa très grande stabilité thermique, avec un point de fusion particulièrement élevé[6].

On peut obtenir le nitrure d'hafnium avec des méthodes semblables à celles du nitrure de titane[7]. Il est ainsi possible de l'obtenir à partir des éléments hafnium et azote entre Modèle:Unité :

2 Hf + [[Diazote|Modèle:Fchim]] ⟶ 2 HfN.

On peut également l'obtenir par croissance à partir de tétrachlorure d'hafnium Modèle:Fchim à Modèle:Tmp dans l'azote pur ou à une température plus basse (de Modèle:Tmp) en présence d'hydrogène (mélange [[Dihydrogène|Modèle:Fchim]] + [[Diazote|Modèle:Fchim]], ou ammoniac Modèle:Fchim). L'hydrogène a également pour effet d'accélérer la vitesse de croissance du nitrure d'hafnium[7].

Sous des pressions élevées, l'ammonolyse ou la réaction du nitrure d'hafnium avec l'azote forme un nitrure d'hafnium de formule Modèle:Fchim de type Modèle:Fchim cubique avec le groupe d'espace IModèle:Surligner3d.

Notes et références

Modèle:Références

Modèle:Palette Modèle:Portail

  1. 1,0 et 1,1 Modèle:En Dale L. Perry, Handbook of Inorganic Compounds, Modèle:2e, Taylor & Francis, 2011, Modèle:P.. Modèle:ISBN
  2. Modèle:En Derya Deniz, Texture evolution in metal nitride (aluminum nitride, titanium nitride, hafnium nitride) thin films prepared by off-normal incidence reactive magnetron sputtering, ProQuest, 2008, Modèle:P.. Modèle:ISBN
  3. Modèle:En Werner Martienssen, Hans Warlimont, Springer Handbook of Condensed Matter and Materials Data, Springer, 2005, Modèle:P.. Modèle:ISBN
  4. Erreur de référence : Balise <ref> incorrecte : aucun texte n’a été fourni pour les références nommées 10.1002/zaac.19673530514
  5. Modèle:De Serope Kalpakjian, Steven R. Schmid et Ewald Werner, Werkstofftechnik, Pearson Deutschland GmbH, 2011, Modèle:P.. Modèle:ISBN
  6. Modèle:En H. M T. Bangalore, Production Technology, Tata McGraw-Hill Education, 2001, Modèle:P.. Modèle:ISBN
  7. 7,0 et 7,1 Modèle:De Georg Brauer, en collaboration avec Marianne Baudler, Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie, Modèle:3e révisée, Modèle:Vol., Ferdinand Enke, Stuttgart, 1978, Modèle:P.. Modèle:ISBN